离子束溅射（IBS）是一种在高真空环境下通过准直离子束轰击靶材实现薄膜沉积的物理气相沉积技术。该工艺利用离子源产生的单能离子束轰击靶材表面，使靶材原子以高动能溅射至基片表面形成致密薄膜。相较于传统溅射技术，其优势在于可通过调节离子束能量和束流密度精确控制薄膜厚度与微观结构。 IBS 系统的典型配置包括基板、靶材和网格离子源以及精密真空系统，通过挡板机构实现预轰击与主沉积的工艺切换。技术特性体现在低温沉积（15-300℃）、高附着力、优异均匀性（薄膜厚度误差＜±1%）等方面，与其他PVD技术相比，离子束溅射​更精确，可以精确控制衬底的厚度。适用于金属、氧化物及高熔点材料薄膜制备等。 当前该技术已广泛应用于紫外光学镀膜、半导体器件涂层、耐磨防护层等高端制造领域 青岛镭创/青岛镭视使用离子束溅射 (IBS) 沉积的光学镀膜，反射率 >99.99%，受温度、湿度等环境因素影响较小，表面粗糙度不再受镀膜限制，涵盖 266-1600nm 波长范围，超快镀膜的群延迟色散 (GDD) 控制，这种镀膜技术具有很高的可重复性，非常适用于高反射率反射镜、超快反射镜，以及具有急剧过渡的滤光片。